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Linear stability analysis of thin leaky dielectric films subjected to electric fields
3.zip Autori: Leonard F. Pease III, W.B. Russel
Presentato al: 3rd International Meeting of the Hellenic Society of Rheology
Anno: 2001
Volume: Unico - Issue: Unico
Casa Editrice:
Lingua: English


Abstract
An intriguing process, known as lithographically induced self assembly (LISA)1,2, is initiated by positioning a planar or patterned template parallel to and within 100 nm or less of a flat silicon wafer coated with a thin film of poly(methyl methacrylate), for example, and then raising the temperature above the glass transition/melting temperature of the film.

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